Хотя может показаться, что это не очень важная новость, данное событие может стать крупным прорывом для Canon и литографии с наноимпринтом. Техасский институт электроники вырос из Центра систем нанопроизводства Техасского университета «в ответ на растущий интерес отрасли к передовой гетерогенной интеграции». TIE поддерживается консорциумом крупных полупроводниковых компаний, включая Intel, NXP и Samsung. Он также поддерживается DARPA, которая недавно выделила TIE и UT грант в размере 1,4 миллиарда долларов на создание многочиплетных 3D-процессоров для военных и гражданских приложений.
В настоящее время система литографии наноимпринтов Canon FPA -1200NZ2C будет использоваться для исследований и разработок производителями микросхем в консорциуме, что имеет большое значение, поскольку в настоящее время Intel, NXP и Samsung используют DUV и EUV (кроме NXP) литографии для производства чипов. Изучая возможности литографии наноимпринтов, эти компании могут внедрять или не внедрять технологию NIL на своих производствах. Компания Canon, безусловно, возлагает большие надежды на эти испытания, поскольку, по данным Nikkei, она планирует ежегодно продавать от 10 до 20 устройств в течение следующих трех—пяти лет.
Традиционные системы фотолитографии DUV и EUV используют свет для проецирования рисунка схемы с фотошаблона на пластину, покрытую резистом. В отличие от этого, при литографии по наноимпринту на резист непосредственно наносится форма с уже нанесенным рисунком схемы. Это устраняет необходимость в оптической системе, позволяя более точно воспроизводить сложные конструкции всего за один шаг, что может снизить производственные затраты. Однако, в то время как литография обрабатывает целые пластины сразу, NIL работает серийно и может быть медленнее. В настоящее время NIL способна производить чипы по 5-нм технологии и, по словам Canon, в конечном итоге может достичь 2-нм.
Изображение: Canon
Однако перед широким внедрением технологии NIL стоит множество проблем. По-прежнему существуют опасения по поводу минимизации дефектов из-за частиц пыли во время производства. Кроме того, Canon необходимо будет сотрудничать с другими компаниями для создания материалов, совместимых с этим новым методом литографии, который будет необходим для широкого использования в промышленности. Наконец, NIL несовместим с потоками, включающими DUV или EUV, что делает невозможной (или, по крайней мере, очень сложной) интеграцию в существующие производственные процессы — поэтому производителям микросхем придется разрабатывать свои производственные технологии с учетом NIL (а это дорого и рискованно).
Сообщение Canon поставило первую систему литографии наноимпринтов Техасскому институту электроники появились сначала на Время электроники.
