Минпромторг заказал разработку аналога американской установки для изготовления пластин диаметром 200 мм и создания чипов по топологии от 180 до 90 нм . На эти цели выделено более 1,7 млрд руб. Так ведомство проводит постепенную работу по созданию российской литографической производственной линии.
