Российские ученые разработали собственную концепцию развития высокопроизводительной рентгеновской литографии. Она основана на ряде инновационных решений, которые приведут к снижению энергетики литографа, уменьшению его габаритных размеров, стоимости оборудования и его использования примерно на порядок
Эта статья заведующего отделом Института физики микроструктур (ИФМ) РАН, доктора физико-математических наук Николая Чхало является продолжением обсуждения разработки в России новейшего EUV-фотолитографа — важнейшей установки, необходимой для изготовления микропроцессоров. Ранее эта тема была затронута в его интервью нашему журналу. На этот раз Николай Иванович рассказывает о новых подходах ИФМ к созданию таких установок, которые позволяют существенно облегчить их разработку и изготовление. Статья является кратким изложением препринта.
Полный вариант статьи принят также для публикации в журнале «Микроэлектроника».
EUV-литография на длине волны 13,5 нм, несмотря на свою молодость (экстремальный ультрафиолет применяется в индустрии с конца 2018 года), стала одной из ключевых технологий при производстве чипов с передовыми технологическими нормами. Производство EUV-литографов и сопутствующего оборудования уже обеспечивает около 50% выручки компании ASML — мирового лидера в производстве литографического оборудования и единственного производителя для EUV-литографии. Однако развиваемая ими концепция достижения максимальной производительности литографического процесса привела к экстремально высокой стоимости оборудования и его эксплуатации. Это резко ограничило число компаний, способных использовать эту технологию. Технически повторить разработку ASML представляется маловероятным, да и использование подобного оборудования для отечественного рынка чипов с его ограниченным объемом нецелесообразно.
Мы предлагаем новую концепцию рентгеновской литографии, основанную на ряде инновационных решений, которые приведут к снижению энергетики литографа, его габаритных размеров, стоимости оборудования и его использования примерно на порядок.
Продолжение см. на https://stimul.online/articles/innovatsii/shans-dlya-russkogo-litografa/
Сообщение В России разработали собственную концепцию развития высокопроизводительной рентгеновской литографии появились сначала на Время электроники.
