Компания Corning представила свой новый материал со сверхнизким расширением (ULE), который разработан для работы с постоянно растущей мощностью новейших систем EUV-литографии с низким NA (числовая апертура) и высоким NA. Предполагается, что новый материал Extreme ULE будет использоваться для изготовления фотошаблонов следующего поколения и зеркал для литографии, которые будут использоваться с инструментами fab следующего поколения.
Ключевой особенностью материала Extreme ULE является чрезвычайно низкое тепловое расширение, которое обеспечивает исключительную консистенцию для использования в фотошаблонах. Кроме того, его превосходная плоскостность помогает свести к минимуму «волнистость фотошаблона», уменьшая нежелательные колебания при производстве чипов. Эти свойства позволяют применять усовершенствованные пленки и фоторезисты для повышения выхода и производительности.
Поскольку инструменты для литографии в экстремальном ультрафиолетовом диапазоне обеспечивают более высокую производительность с точки зрения обработки пластины в час (WPH), в них используются более мощные источники света, а более мощные источники света подвергают пленки фотошаблонов, фотошаблоны и, в конечном итоге, резисты и пластины воздействию более высокой дозы ультрафиолетового излучения и тепла.
В оборудовании для электронно-лучевой литографии источник плазмы, генерирующий электронно-лучевой свет, выделяет много тепла, но оно в основном остаётся в камере источника, отделённой от фотошаблона. Свет проходит через набор литографических зеркал, которые чувствительны к нагреву. Что касается самого фотошаблона, то он изготовлен из многослойных отражающих материалов, предназначенных для отражения электронно-лучевого света. Хотя эти слои обладают высокой отражающей способностью, некоторое поглощение всё же происходит, что приводит к незначительному нагреву маски. Учитывая сложность современных схем, даже небольшая деформация или несоответствие могут привести к дефектам, снижающим производительность, или к нестабильной работе.
Именно здесь в игру вступает ULE glass от Corning — семейство материалов из титаносиликатного стекла с характеристиками, близкими к нулевому расширению. Extreme ULE — это эволюция оригинального семейства ULE, которое призвано обеспечить исключительную термостойкость и однородный стеклянный материал для EUV-инструментов следующего поколения с высоким содержанием NA, а также будущих EUV-инструментов с низким содержанием NA, использующих те же источники света.
«Поскольку требования к производству интегрированных микросхем растут с развитием искусственного интеллекта, инновации в производстве стекла важны как никогда», — сказал Клод Эчахамиан, вице-президент и генеральный менеджер Corning Advanced Optics. «Стекло Extreme ULE Glass расширит жизненно важную роль Corning в постоянном следовании Закону Мура, помогая обеспечить более мощное производство EUV, а также более высокую производительность».
Сообщение Создан материал из титаносиликатного стекла для производства микросхем нового поколения появились сначала на Время электроники.
