EUV-экспонирование High Numerical Aperture (High-NA) станет решающей технологией в ближайшие годы. ASML уже завершила разработку и поставила две системы TWINSCAN NXE:5000, одну для Intel и одну для внутренних исследований. Хотя 0,55 High-NA EUV начнет играть важную роль только с 2025/26 года, все новые производственные технологии в последующие годы будут основаны на 0,55 High-NA EUV, даже если они будут использоваться лишь для нескольких слоев чипа.
Несколько недель назад компания Intel рассказала о рисках и возможностях 0,55 High-NA EUV, мы рассмотрели различные аспекты в отдельной новости . Уже тогда было ясно, что за High-NA с апертурой 0,55 последует следующий шаг: 0,75 High-NA EUV.
Именно этот шаг 0,75 High-NA EUV сейчас представлен в планах ASML на выставке imec ITF World в Антверпене ( источник EE Times ). На данный момент ASML называет следующий шаг после 0,75 High-NA EUV как ...
