ASML, ведущий производитель полупроводникового оборудования, совместно с бельгийской фирмой Imec, занимающейся исследованиями в области микросхем, запустила тестовую лабораторию для своего современного оборудования EUV-литографии.
Лаборатория, расположенная в Велдховене (Нидерланды), разрабатывалась в течение нескольких лет и предлагает производителям и поставщикам микросхем возможность поработать с инструментом стоимостью 350 миллионов евро.
Этот инструмент повышает разрешение на 60%, что обещает прогресс в создании более компактных и быстрых чипов. ASML, занимающая лидирующие позиции на рынке литографического оборудования, ожидает, что коммерческое производство этого инструмента начнется в период с 2025 по 2026 год. На данный момент ASML поставила одну тестовую машину для Intel в США, а к 2025 году планирует интегрировать ее в технологический процесс 14A.
Несмотря на значительный интерес, TSMC, крупнейший заказчик EUV-оборудования ASML, заявила, что ей не потребуются «High NA"-инструменты для техпроцесса A16, производство которых запланировано на 2025 год.
